光学检测器
授权
摘要
一种用于检测被规则结构衍射的衍射辐射的检测器，所述检测器包括：传感器，其用于感测所述衍射辐射的至少一部分，所述传感器具有第一区和第二区；第一涂层，其被配置成允许波长在第一波长范围内的辐射透射；以及第二涂层，其被配置成允许波长在第二波长范围内的辐射透射；其中，所述第一涂层涂覆所述传感器的第一区，并且所述第二涂层涂覆所述感测器的第二区，并且其中，所述第一区和所述第二区是不同的区。
基本信息
专利标题 ：
光学检测器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111051984A
申请号 ：
CN201880047778.4
公开（公告）日 ：
2020-04-21
申请日 ：
2018-07-03
授权号 ：
CN111051984B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
S·B·罗博尔理查德·金塔尼利亚
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡良均
优先权 ：
CN201880047778.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-05-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180703
申请日 : 20180703
2020-04-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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