调适前馈参数的方法
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摘要
本发明披露了一种用于校正在图案化衬底的过程中使用的一个或更多个前馈参数的值的方法，所述方法包括：获得形成图案后的衬底的被测量的重叠和/或对准误差数据；依赖于所述被测量的重叠和/或对准误差数据来计算用于所述一个或更多个前馈参数的一个或更多个校正值。
基本信息
专利标题 ：
调适前馈参数的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111033387A
申请号 ：
CN201880052659.8
公开（公告）日 ：
2020-04-17
申请日 ：
2018-07-12
授权号 ：
CN111033387B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
H·亚古比萨德A·K·埃尔达玛H·E·采克利
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王益
优先权 ：
CN201880052659.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2020-05-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180712
申请日 : 20180712
2020-04-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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