水处理控制系统
授权
摘要
本发明通过抑制曝气所需的能量成本以及抑制附着/堆积于分离膜的表面和孔中的硝化细菌繁殖来降低水处理控制系统的运行成本。具有：进行好气处理的好气槽(2)；对好气槽(2)内的被处理水进行曝气的好气槽曝气装置(3)；具有分离膜(5)的膜过滤槽(4)，该分离膜(5)对在好气槽(2)处理后的被处理水进行过滤；测量膜过滤槽(4)内的被处理水的氨浓度而作为膜过滤槽氨浓度实测值的膜过滤槽测量器(9)；以及好气槽曝气风量计算装置(10)，基于膜过滤槽氨浓度实测值来设定好气槽曝气装置(3)的好气槽曝气风量。
基本信息
专利标题 ：
水处理控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111032581A
申请号 ：
CN201880053742.7
公开（公告）日 ：
2020-04-17
申请日 ：
2018-05-17
授权号 ：
CN111032581B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
须田拓见安永望今村英二林佳史
申请人 ：
三菱电机株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
严鹏
优先权 ：
CN201880053742.7
主分类号 ：
C02F3/12
IPC分类号 ：
C02F3/12 B01D65/08 C02F1/44 C02F3/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F3/00
水、废水或污水的生物处理
C02F3/02
好氧工艺
C02F3/12
活性污泥法
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-05-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C02F 3/12
申请日 : 20180517
申请日 : 20180517
2020-04-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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