通过断层反投影进行三维制造的方法和装置
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摘要
一种用于制备三维物体的方法，其包括计算反投影的序列，所述反投影的序列描述待从所述物体的不同取向角度形成的三维物体，使用所述反投影限定光图案的序列，以及用每个所述光图案以各自相应的取向角度并根据限定的序列照射光响应材料，所述光响应材料能够在光照射时改变其材料相，从而在光响应介质内形成变化的三维分布，在物理上再现所述三维物体，从而创建所述三维物体。
基本信息
专利标题 ：
通过断层反投影进行三维制造的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111093994A
申请号 ：
CN201880056309.9
公开（公告）日 ：
2020-05-01
申请日 ：
2018-08-23
授权号 ：
CN111093994B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
D·洛特利亚P·德洛C·莫泽
申请人 ：
洛桑联邦理工学院
申请人地址 ：
瑞士洛桑
代理机构 ：
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 ：
郭广迅
优先权 ：
CN201880056309.9
主分类号 ：
B33Y50/00
IPC分类号 ：
B33Y50/00 B29C64/386 B29C64/10 H04N1/40
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B33
增材制造技术
B33Y
增材制造，即三维物品制造，通过增材沉积，增材凝聚或增材分层，如3D打印，立体照片或选择性激光烧结
B33Y50/00
增材制造的数据获得或数据处理
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-06-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B33Y 50/00
申请日 : 20180823
申请日 : 20180823
2020-05-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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