光学感测装置和用于制造光学感测装置的方法
授权
摘要
光学感测装置(10)包括光电探测器阵列(11)，包括至少一个第一光电探测器(12)和至少一个第二光电探测器(13)，光电探测器阵列(11)设置在半导体衬底(14)上。光学感测装置(10)还包括滤波叠层(15)，设置在衬底(14)上，并且覆盖光电探测器阵列(11)。滤波叠层(15)包括至少两个第一下部电介质镜(16)和至少两个第二下部电介质镜(17)，其中第一和第二下部镜(16、17)设置在第一光电探测器(12)上，并且第一和第二下部镜(16、7)设置在第二光电探测器(13)之上，并且其中第一下部镜(16)在垂直于衬底(14)延伸的主平面的垂直方向(z)上的厚度与第二下部镜(17)不同。滤波叠层(15)还包括设置在第一和第二下部镜(16、17)上的间隔叠层(18)，以及设置在间隔叠层(18)上并且覆盖光电探测器阵列(11)的上部电介质镜(19)。此外，提供了制造光学感测装置(10)的方法。
基本信息
专利标题 ：
光学感测装置和用于制造光学感测装置的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111164394A
申请号 ：
CN201880062990.8
公开（公告）日 ：
2020-05-15
申请日 ：
2018-08-30
授权号 ：
CN111164394B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
休伯特·叶尼切尔迈尔格哈德·艾尔姆施泰纳
申请人 ：
AMS有限公司
申请人地址 ：
奥地利普伦斯塔滕
代理机构 ：
北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
罗小晨
优先权 ：
CN201880062990.8
主分类号 ：
G01J3/26
IPC分类号 ：
G01J3/26 G01J3/28 G01J3/36 G01J3/51 H01L27/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法；分光光度测定法；单色器；测定颜色
G01J3/12
光谱的产生；单色器
G01J3/26
应用多次反射，例如，法布里—珀罗干涉仪，可变干涉滤光器
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2020-06-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 3/26
申请日 : 20180830
申请日 : 20180830
2020-05-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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