二维光均化

授权

摘要

公开了一种光学反射设备，该设备包括波导和安装到该波导的表面的纵向光均化结构。该光均化结构可接收输入光，并通过沿波导的纵向维度均化输入光来产生纵向均化光。该波导中的交叉耦合器可从光均化结构接收纵向均化光，并且可通过沿波导的横向维度重新引导纵向均化光来产生二维均化光。该光均化结构可包括部分反射层、具有折射率失配的堆叠基板层，和/或部分反射层和完全反射层的组合。交叉耦合器和/或部分反射层可使用全息图组形成。棱镜或倾斜的基板表面可将输入光耦合到基板中。

基本信息

专利标题：

二维光均化

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111201476A

申请号：

CN201880066065.2

公开（公告）日：

2020-05-26

申请日：

2018-09-27

授权号：

CN111201476B

授权日：

2022-06-03

发明人：

A·乌尔讷斯M·R·艾尔斯F·施洛托K·E·安德森

申请人：

阿科尼亚全息有限责任公司

申请人地址：

美国科罗拉多

代理机构：

北京市汉坤律师事务所

代理人：

魏小薇

优先权：

CN201880066065.2

主分类号：

G02B27/01

IPC分类号：

G02B27/01 G02B27/14 F21V8/00