双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统...
授权
摘要
实现透镜调整敏感性改善了的双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统的组装方法。双透镜光学系统(100)具备：第1透镜(1)，其仅沿从光源放射的光的光轴方向移动，并且用于进行准直调整；以及第2透镜(2)，其仅沿与光轴方向相对垂直的2个轴方向移动，并且用于进行光束转向。
基本信息
专利标题 ：
双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统的组装方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112119336A
申请号 ：
CN201880093234.1
公开（公告）日 ：
2020-12-22
申请日 ：
2018-05-14
授权号 ：
CN112119336B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
彼得·约翰·罗伯茨藤井宪晃伊藤晋
申请人 ：
夏普株式会社
申请人地址 ：
日本国大阪府堺市堺区匠町1番地
代理机构 ：
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
代理人 ：
汪飞亚
优先权 ：
CN201880093234.1
主分类号 ：
G02B7/02
IPC分类号 ：
G02B7/02 G02B27/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/02
用于透镜
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2021-01-08 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 7/02
申请日 : 20180514
申请日 : 20180514
2020-12-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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