一种用于显示面板和半导体领域的水基型光刻胶剥离液

授权

摘要

本发明涉及一种用于显示面板和半导体领域的水基型光刻胶剥离液，包括25%‑40%的高沸点醇醚类水溶性有机溶剂，15%‑35%的酰胺类有机溶剂，5%‑15%的醇胺类化合物，2%‑8%的gemini型烷基糖苷类表面活性剂，0.1%‑5%缓蚀剂，10%‑40%的水。该水基型光刻胶剥离液组合物能有效提高剥离液的剥离速度和持久性，操作窗口大，同时能大大降低对基底和Cu金属的腐蚀作用；同时该表面活性剂具有很强的润湿、渗透性能，能有效提高剥离液的剥离性能，同时该表面活性剂存在一定的抗腐蚀性，与缓蚀剂形成能较好的协同作用，防止基底和Cu金属布线腐蚀的产生。

基本信息

专利标题：

一种用于显示面板和半导体领域的水基型光刻胶剥离液

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN109634071A

申请号：

CN201910061476.9

公开（公告）日：

2019-04-16

申请日：

2019-01-23

授权号：

CN109634071B

授权日：

2022-04-12

发明人：

刘小勇颜如彩田博

申请人：

福建省佑达环保材料有限公司

申请人地址：

福建省泉州市泉港区前黄镇驿峰西路499号

代理机构：

福州元创专利商标代理有限公司

代理人：

蔡学俊

优先权：

CN201910061476.9

主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

G03F7/42

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/26

感光材料的处理及其设备

G03F7/42

剥离或剥离剂

法律状态

2022-04-12 ：

授权

2019-05-10 ：

实质审查的生效

IPC(主分类) : G03F 7/42
申请日 : 20190123

2019-04-16 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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