阵列基板与显示装置
授权
摘要
本申请涉及一种阵列基板和显示装置,该阵列基板包括相互垂直的扫描线和第二金属层公共电极以及位于同一扫描线同侧并分别位于同一第二金属层公共电极两侧的第一像素电极和第二像素电极,第一像素电极具有第一斜边,第二像素电极具有第二斜边,第一斜边和第二斜边相对设置,定义第一斜边的延长线、第二斜边的延长线和相邻扫描线正投影所围成的区域为目标区域,在目标区域内形成连接导体,连接导体通过过孔连接处于绝缘层两侧的第二金属层公共电极和第一金属层公共电极,且连接导体与第一斜边、第二斜边和相邻扫描线的正投影相互平行。在本申请中,先通过像素电极和扫描线限定出设置连接导体的目标区域,然后设计连接导体的形态,使得目标区域尽可能小,从而增大像素的开口率。
基本信息
专利标题 :
阵列基板与显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110221489A
申请号 :
CN201910369910.X
公开(公告)日 :
2019-09-10
申请日 :
2019-05-06
授权号 :
CN110221489B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
杨艳娜
申请人 :
北海惠科光电技术有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
申请人地址 :
广西壮族自治区北海市工业园北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司二期A座4楼A-430室
代理机构 :
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
吴平
优先权 :
CN201910369910.X
主分类号 :
G02F1/1343
IPC分类号 :
G02F1/1343 G02F1/1362 G02F1/1333 G09F9/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1343
电极
法律状态
2022-04-15 :
授权
2019-10-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1343
申请日 : 20190506
申请日 : 20190506
2019-09-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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