阵列基板和显示装置
授权
摘要
一种阵列基板和显示装置。该阵列基板包括数据线和信号线，各子像素单元包括像素电极，像素电极与数据线之间的距离为第一距离D1，像素电极与信号线之间的距离为第二距离D2，像素电极靠近数据线的边长为L1，靠近信号线的边长为L2；各子像素单元还包括驱动晶体管，驱动晶体管的源极与数据线和信号线中的一个相连，漏极与像素电极相连；驱动晶体管的漏极与源极的距离为第三距离D3，漏极与数据线和信号线中的另一个的距离为第四距离D4，源极在第二方向上的尺寸为L3，漏极在第二方向上的尺寸为L4，(E1*L1/D1+E2*L3/D3)和(E1*L2/D2+E2*L4/D4)的比值范围为0.9‑1.1，从而可有效避免灰阶串扰不良。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板和显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121495654.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-07-02
授权号 ：
CN216351676U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
李必奇先建波江亮亮周茂秀程敏
申请人 ：
北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区地泽路9号1幢407室
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
焦玉恒
优先权 ：
CN202121495654.8
主分类号 ：
G02F1/1362
IPC分类号 ：
G02F1/1362 G02F1/1368 G02F1/1343 H01L27/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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