发光单元及其制造方法、显示装置

授权

摘要

本申请公开了一种发光单元及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。所述发光单元包括：层叠的第一电极层、发光层和第二电极层；发光单元还包括：平坦层和光调节结构，平坦层位于目标电极层与发光层之间，目标电极层包括：第一电极层和第二电极层中的至少一个，平坦层用于增加目标电极层与发光层之间的距离；光调节结构用于改变发射至光调节结构表面的光的传输方向，光调节结构满足以下任一个：光调节结构位于平坦层内，光调节结构位于平坦层靠近目标电极层的一侧。本申请提高了发光单元的出光效率。本申请用于发光。

基本信息

专利标题：

发光单元及其制造方法、显示装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110112319A

申请号：

CN201910448099.4

公开（公告）日：

2019-08-09

申请日：

2019-05-27

授权号：

CN110112319B

授权日：

2022-04-19

发明人：

孙海雁张晓晋

申请人：

京东方科技集团股份有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

北京三高永信知识产权代理有限责任公司

代理人：

杨广宇

优先权：

CN201910448099.4

主分类号：

H01L51/52

IPC分类号：

H01L51/52 H01L51/56