激光装置和窄带化光学系统
授权
摘要
本发明提供一种激光装置和窄带化光学系统。激光装置具有：腔室，其内部配置有一对放电电极；光栅，其被配置在所述腔室之外；第1扩束光学系统，其被配置在所述腔室与所述光栅之间，以使从所述腔室输出的光束在与所述光束的行进方向垂直的第1方向上扩展；以及第2扩束光学系统，其被配置在所述腔室与所述光栅之间，以使从所述腔室输出的光束在与所述光束的行进方向和所述第1方向双方垂直的第2方向上扩展，使从所述第2扩束光学系统到所述光栅的所述光束的光路轴相对于从所述腔室到所述第2扩束光学系统的所述光束的光路轴在所述第2方向上偏移。
基本信息
专利标题 ：
激光装置和窄带化光学系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110471261A
申请号 ：
CN201910767894.X
公开（公告）日 ：
2019-11-19
申请日 ：
2016-04-01
授权号 ：
CN110471261B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
宫本浩孝
申请人 ：
极光先进雷射株式会社
申请人地址 ：
日本栃木县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李辉
优先权 ：
CN201910767894.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2019-12-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20160401
申请日 : 20160401
2019-11-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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