晶圆切割晶片数计算方法及计算设备
授权
摘要

本申请涉及一种晶圆切割晶片数计算方法及其计算设备,该计算方法包括:建立二维坐标系,确定晶片分布阵列;任定定点晶片,按较大的第一步进值在定点晶片内移动晶圆中心并确定晶圆的各第一覆盖区域,计算各第一覆盖区域的有效晶片数并取有效晶片数最大的晶圆中心作为可行位置;通过连接线连接位于相邻晶圆中心处的可行位置,形成可行区域;按较小的第二步进值在可行区域内移动晶圆中心并确定晶圆的各第二覆盖区域,计算各第二覆盖区域的有效晶片数,以最大有效晶片数作为最佳切割晶片数。通过启发算法的思想,快速确定可行区域,缩小搜索范围,然后在可行区域内精准搜索,确定最大晶片数,由此缩短计算时间。

基本信息
专利标题 :
晶圆切割晶片数计算方法及计算设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112446887A
申请号 :
CN201910836284.0
公开(公告)日 :
2021-03-05
申请日 :
2019-09-05
授权号 :
CN112446887B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
萧礼明
申请人 :
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 :
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
罗平
优先权 :
CN201910836284.0
主分类号 :
G06T7/11
IPC分类号 :
G06T7/11  G06T7/12  G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T5/00
图像的增强或复原
G06T5/50
通过使用多于一幅图像的,例如平均、减少
G06T7/11
区域分割
法律状态
2022-04-08 :
授权
2021-03-23 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 7/11
申请日 : 20190905
2021-03-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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