一种光电探测器光敏面中心精确测量装置及方法
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摘要

本发明提供了一种光电探测器光敏面中心精确测量装置及方法,包括显微镜,还包括与显微镜配合使用的双竖轴组合检测装置,所述双竖轴组合检测装置包括从上至下依次连接的上竖轴盖、竖轴套和下竖轴座,所述上竖轴盖、竖轴套和下竖轴座均同轴。本发明主要针对双四象限光电探测器光敏面中心相对装配基准轴偏离量大和同轴度测量难题,可实现自动确定中心和准确定位。本发明提供的光电探测器光敏中心精确检测方法,通过修切消除带环光电探测器部件原方案装配过程产生的基准转换误差,剔除了器件制造基准与光敏面中心测量的基准轴之间偏离误差,既能满足超差器件的装配要求,又能消除原装配过程的基准转换误差。

基本信息
专利标题 :
一种光电探测器光敏面中心精确测量装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110676187A
申请号 :
CN201910848986.0
公开(公告)日 :
2020-01-10
申请日 :
2019-09-09
授权号 :
CN110676187B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
张勇王斌马军伟李群王文仲赵宗哲韩文进
申请人 :
西安北方光电科技防务有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市长乐中路35号
代理机构 :
西安吉盛专利代理有限责任公司
代理人 :
李新苗
优先权 :
CN201910848986.0
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  H01L31/18  G01B11/27  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-04-12 :
授权
2020-02-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20190909
2020-01-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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