一种可自修复或可回收的光固化3D打印制件及其制备方法与应...
授权
摘要
本发明公开一种可自修复或可回收的光固化3D打印制件及其制备方法与应用。制备3D打印制件的组合物包括：光敏树脂的单体、光引发剂与功能单体；光敏树脂的单体为单官能度光敏化合物；功能单体选自具有MxRy所示结构式的化合物的至少一种，其中，M选自金属离子，R选自阴离子；n为金属离子的价态数，m为阴离子的价态数，若n/m为整数，则x＝1，y＝n/m；若n/m不是整数，则x＝m，y＝n。组合物通过光固化3D打印制备得到光固化3D打印制件。本发明的光固化3D打印制件的力学性能好，自修复和回收方法简单，且修复后能够保持良好的力学性能，可以实现光固化3D打印材料的反复使用，减少了资源浪费和环境污染。
基本信息
专利标题 ：
一种可自修复或可回收的光固化3D打印制件及其制备方法与应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112480293A
申请号 ：
CN201910866553.8
公开（公告）日 ：
2021-03-12
申请日 ：
2019-09-12
授权号 ：
CN112480293B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
朱光达侯仪赵宁徐坚
申请人 ：
中国科学院化学研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村北一街2号
代理机构 ：
北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘元霞
优先权 ：
CN201910866553.8
主分类号 ：
C08F120/20
IPC分类号 ：
C08F120/20 C08F2/48 C08F2/44 C08K3/36 C08K3/16 C08F220/20 C08F220/06 C08K3/04 C08K3/34 C08K3/22 C08K3/28 C08K3/38 B33Y70/10 B33Y80/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F120/00
具有1个或更多不饱和脂族基化合物的均聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且只有1个仅是以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端
C08F120/02
具有少于10个碳原子的一元羧酸；它的衍生物
C08F120/10
酯
C08F120/20
多元醇或酚的
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2021-03-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08F 120/20
申请日 : 20190912
申请日 : 20190912
2021-03-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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