光固化涂层的制备方法
专利申请的视为撤回
摘要
用两次曝光生成光固化涂层如光抗蚀剂的一种方法，此方法中采用了一种含有光敏自由基反应体系和光敏阳离子型固化环氧体系的组合物，将此组合物进行第一次照射曝光使上述体系之一引发而发生反应，又在不同波长下进行第二步照射曝光而引发另一体系发生反应。还发明了光固化涂层的影象形成方法。
基本信息
专利标题 ：
光固化涂层的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1037041A
申请号 ：
CN89101874.3
公开（公告）日 ：
1989-11-08
申请日 ：
1989-03-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小查尔斯·爱德华·沃伯顿尼克拉斯·安德鲁·劳兹
申请人 ：
罗姆和哈斯公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚州
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王杰
优先权 ：
CN89101874.3
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
1996-07-17 ：
专利申请的视为撤回
1991-07-03 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1989-11-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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