一种提升产电的酞菁铁过滤阴极膜的制备方法
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摘要
本发明涉及一种提升产电的酞菁铁过滤阴极膜的制备方法，将聚酰亚胺、聚醚酮或聚醚酰亚胺中的一种和成膜亲水改性剂在二氯甲烷溶液中溶解，静置得到脱除气泡的均相溶液；将活性炭、导电材料以及一种酞菁铁金属配合物混合，与均相溶液混匀超声制成一种掺杂酞菁铁过滤阴极膜。酞菁结构存在18π电子的共轭体系，电子会加快氧还原反应中电子的转移，提高阴极膜的导电性和电流密度，有利于提高氧还原催化稳定性，比传统MFC相比，掺杂酞菁铁过滤输出功率提高1‑2数量级，功率输出效率提高20％‑30％。掺杂酞菁铁过滤阴极膜起到截留和过滤的作用，进一步提高MFC系统出水效果。
基本信息
专利标题 ：
一种提升产电的酞菁铁过滤阴极膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110808379A
申请号 ：
CN201910975386.0
公开（公告）日 ：
2020-02-18
申请日 ：
2019-10-14
授权号 ：
CN110808379B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
刘佳许润钒郁美莹陈雪鹏李楠何伟华冯玉杰
申请人 ：
天津大学
申请人地址 ：
天津市南开区卫津路92号天津大学
代理机构 ：
天津市北洋有限责任专利代理事务所
代理人 ：
曹玉平
优先权 ：
CN201910975386.0
主分类号 ：
H01M4/88
IPC分类号 ：
H01M4/88 H01M4/90 H01M8/16
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-03-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01M 4/88
申请日 : 20191014
申请日 : 20191014
2020-02-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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