一种真空吸附底座及显示面板绑定用设备
授权
摘要

本发明揭露一种真空吸附底座及显示面板绑定用设备,真空吸附底座包括:一载台,所述载台包括用于承载待真空吸附组件的一第一表面以及与所述第一表面相对的一第二表面,所述载台包括与外部真空源连接的一抽真空孔以及与所述抽真空孔连通的一真空腔;多个调节件,可伸缩地设置于所述载台上,以适配所述待真空吸附组件的形态。本发明可实现采用同一真空吸附底座进行不同版本的待真空吸附组件的真空吸附操作,节约生产成本,且可以应对临时变更待真空吸附组件的问题,保证真空吸附操作的实现,进而确保后续操作可以顺利进行。

基本信息
专利标题 :
一种真空吸附底座及显示面板绑定用设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110703473A
申请号 :
CN201911039227.6
公开(公告)日 :
2020-01-17
申请日 :
2019-10-29
授权号 :
CN110703473B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
李任鹏刘晓锋
申请人 :
武汉华星光电技术有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
李新干
优先权 :
CN201911039227.6
主分类号 :
G02F1/13
IPC分类号 :
G02F1/13  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
法律状态
2022-05-31 :
授权
2020-02-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/13
申请日 : 20191029
2020-01-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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