气体分布器及其加工方法
授权
摘要
本公开提供一种蚀刻制程气体分布器及其加工方法。加工方法包括：对蚀刻机台中放置第一晶圆，所述蚀刻机台的等离子发生器的下方设置有气体分布器，所述气体分布器具有多个筛孔；控制所述蚀刻机台运行，使所述等离子发生器对所述气体分布器喷射等离子体氧，以在所述气体分布器的上下表面和筛孔内表面形成氧化层；在所述蚀刻机台中放置表面涂覆有光刻胶的第二晶圆；控制所述蚀刻机台运行，使所述等离子发生器喷射等离子体蚀刻气体蚀刻所述第二晶圆，以在所述气体分布器的氧化层上形成碳化层。本公开实施例可以提高第一次投入使用的气体分布器的蚀刻效果和蚀刻效率。
基本信息
专利标题 ：
气体分布器及其加工方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112908819A
申请号 ：
CN201911222462.7
公开（公告）日 ：
2021-06-04
申请日 ：
2019-12-03
授权号 ：
CN112908819B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
刘浩东程兵
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙宝海
优先权 ：
CN201911222462.7
主分类号 ：
H01J37/305
IPC分类号 ：
H01J37/305 H01J37/32
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/305
用于浇铸、熔化、蒸发或浸蚀的
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2021-06-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/305
申请日 : 20191203
申请日 : 20191203
2021-06-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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