一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置
授权
摘要

本发明提出了一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置。包括:将水井分为观测井以及抽水井两组,建立时间流速算法,获取待计算数据,根据时间流速算法进行计算,获取流速数值,根据该流速数值对抽水井进行抽水,记录所有水井内水位变化数据;设定比较数值阈值,根据观测井水位变化数值以及抽水井水位变化数值确定获取待比较数值,将比较数值阈值与待比较数值进行比较,根据比较结果对地下岩溶结构进行刻画。本发明通过将抽水井抽水流速设置为以时间为自变量的余弦函数,对观测井内水位变化值进行分析,结合抽水井内水位变化值(相位和振幅),能够准确快速对地下岩溶结构进行精细刻画。

基本信息
专利标题 :
一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111077587A
申请号 :
CN201911391156.6
公开(公告)日 :
2020-04-28
申请日 :
2019-12-30
授权号 :
CN111077587B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
胡蔚萌
申请人 :
武汉市陆刻科技有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区东信路数码港E幢二层2256、2266室
代理机构 :
武汉红观专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张杰
优先权 :
CN201911391156.6
主分类号 :
G01V9/00
IPC分类号 :
G01V9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01V
地球物理;重力测量;物质或物体的探测;示踪物
G01V9/00
用G01V1/00至G01V8/00各组不包括的方法勘探或探测
法律状态
2022-04-15 :
授权
2020-07-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01V 9/00
申请日 : 20191230
2020-04-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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