反射激波波后双流场参数可控的基本流场及设计方法
授权
摘要
本发明提供一种反射激波波后双流场参数可控的基本流场及设计方法，包括如下步骤：1)设计入射激波2及其波后依赖域流场；2)设计等熵压缩段流场和反射激波7；3)设计反射激波7波后依赖域流场；4)设计整流区域流场；5)步骤1)～步骤4)中得到的入射激波波后依赖域流场、等熵压缩段流场和反射激波波后依赖域流场和整流区域流场在空间上依次连接构成了整个内转式进气道的基本流场。本发明能够在给定的入射激波形状下根据给定的反射激波波后任意两种流场参数设计基本流场构型，实现了根据下游流场参数设计基本流场的设计思想，有效提升基本流场和进气道的设计效率。
基本信息
专利标题 ：
反射激波波后双流场参数可控的基本流场及设计方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111159899A
申请号 ：
CN201911402293.5
公开（公告）日 ：
2020-05-15
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN111159899B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
乔文友余安远靳雨南蒋斌曲俐鹏杨大伟
申请人 ：
西南科技大学;中国空气动力研究与发展中心
申请人地址 ：
四川省绵阳市涪城区青龙大道59号
代理机构 ：
成都点睛专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
敖欢
优先权 ：
CN201911402293.5
主分类号 ：
G06F30/20
IPC分类号 ：
G06F30/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/20
设计优化、验证或模拟
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2020-06-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/20
申请日 : 20191231
申请日 : 20191231
2020-05-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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