高均匀性圆筒镍网的涂胶系统
授权
摘要
本实用新型涉及的一种高均匀性圆筒镍网的涂胶系统，它包括感光涂胶机、高压冲洗台、高温烘箱、浸泡水槽和圆网装闷头机；所述感光涂胶机包括机架、胶桶、涂胶辊、曝光灯和操作箱，所述机架的一侧连接有操作箱，所述机架的顶部设有涂胶双杆，所述涂胶双杆上滑动设置有胶桶，所述涂胶双杆的下方设置有涂胶辊，所述涂胶辊的下方设置有移动轨道，所述移动轨道上滑动设置有曝光灯；所述高压冲洗台包括台架和支撑横杆，所述圆网装闷头机包括机体、卡盘架、中托架和卡盘。本实用新型涂胶均匀，使用感光印花法，涂胶后马上曝光显影，随之用水洗溶解光敏剂，使得印花部分留在圆网上，环保的同时节约资源。
基本信息
专利标题 ：
高均匀性圆筒镍网的涂胶系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920429872.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-01
授权号 ：
CN209690710U
授权日 ：
2019-11-26
发明人 ：
孙科李洪孟晓峰赵轶君张胜权
申请人 ：
江苏双宇镍业高科有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市澄江街道新澄路12号
代理机构 ：
江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
隋玲玲
优先权 ：
CN201920429872.8
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/18 G03F7/30 G03F7/40 B05C1/08 B05D1/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2019-11-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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