一种聚焦结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种聚焦结构，包括光学基材层和聚焦层，所述光学基材层上表面分布有多个呈周期性排列或至少局部周期性排列的聚焦单元，多个聚焦单元排列组成聚焦层，进一步的，还可包括表面封装层，所述聚焦层上表面覆盖有表面封装层，当聚焦单元为凸面单元时，表面封装层形成与聚焦单元配合的凹面单元阵列层；当聚焦单元为凹面单元时，表面封装层形成与聚焦单元配合的凸面单元阵列层。本实用新型的聚焦结构整体就能对光线呈聚焦状态，增加了表面封装层，能够使雾度降低，光学透过率增加，用于实现裸眼3D显示时，长时间观看也不会有眼晕头昏现象。
基本信息
专利标题 ：
一种聚焦结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920445073.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-03
授权号 ：
CN209560213U
授权日 ：
2019-10-29
发明人 ：
冯煜王安娜冯超
申请人 ：
冯煜;王安娜;冯超
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区通园路28号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920445073.X
主分类号 ：
G02B27/22
IPC分类号 ：
G02B27/22
法律状态
2019-10-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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