聚焦掩模
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种掩模，适用于粒子束源例如离子或电子源以形成特征和结构并且在材料表面上进行写入。该掩模包括具有多个孔的孔板以及位于孔板之下的聚焦装置。该多个孔形成阵列，由此每个板孔适于接收入射到孔板上的粒子束的一部分。然后该粒子束的每一个部分经过聚焦装置，通过该装置被聚焦到表面上。该掩模由此形成多个高分辨率的可被同时操作的聚焦粒子束。
基本信息
专利标题 ：
聚焦掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101084567A
申请号 ：
CN200580039382.8
公开（公告）日 ：
2007-12-05
申请日 ：
2005-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
德里克·安东尼·伊斯特汉
申请人 ：
NFAB有限公司
申请人地址 ：
英国登比郡
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
车文
优先权 ：
CN200580039382.8
主分类号 ：
H01J37/317
IPC分类号 ：
H01J37/317
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入
法律状态
2008-08-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-12-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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