有机器件、掩模组以及掩模
授权
摘要
本实用新型提供有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的第2电极；和第2显示区域，其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。第2显示区域可以包含：第2电极；和在俯视时被第2电极包围的透射区域。透射区域可以包含：第1透射区域；和隔着第2电极与第1透射区域相邻的第2透射区域。可以是，第1透射区域具有第1形状，第2透射区域具有与第1形状不同的第2形状。
基本信息
专利标题 ：
有机器件、掩模组以及掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123323954.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-27
授权号 ：
CN216563200U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
中村阳子大八木康之谷口幸夫堀口龙二井上功
申请人 ：
大日本印刷株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
马莹
优先权 ：
CN202123323954.0
主分类号 ：
H01L51/50
IPC分类号 ：
H01L51/50 H01L51/52 H01L51/56
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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