掩模的清洗方法、清洗液、清洗装置、以及有机器件的制造方法
公开
摘要
本发明涉及掩模的清洗方法、清洗液、清洗装置、以及有机器件的制造方法。一种对掩模进行清洗的清洗方法，其具备通过使清洗液与掩模接触而对掩模进行清洗的清洗工序。清洗液包含碘化钾和碘。清洗液的温度小于25℃。
基本信息
专利标题 ：
掩模的清洗方法、清洗液、清洗装置、以及有机器件的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114345825A
申请号 ：
CN202111190370.2
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-10-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
德永圭治中村友祐小幡胜也
申请人 ：
大日本印刷株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
褚瑶杨
优先权 ：
CN202111190370.2
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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