一种精密抛光晶片用有机物清洗液
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及清洗液技术领域，特别是一种适用于精密抛光晶片的有机物去除清洗液。该有机物清洗液由醚和醇两种有机溶剂组成。醚在混合液中所占重量含量为5％到95％，醇所占重量含量为95％到5％。其中醚由下列中选出：甲醚、乙醚、乙二醚、丙醚、丁醚、异丙醚、乙丙醚、苯甲醚、石油醚。其中醚为石油醚。其中醇由下列选出：甲醇、乙醇、乙二醇、丙醇、异丙醇、丁醇、2－丁醇、正丁醇、丙醇、正丙醇、正戊醇、异戊醇。其中醇含有三个以下的羟基。其中醇含有一个羟基。其中醇为异丙醇。
基本信息
专利标题 ：
一种精密抛光晶片用有机物清洗液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1970714A
申请号 ：
CN200510086960.5
公开（公告）日 ：
2007-05-30
申请日 ：
2005-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朱蓉辉惠峰卜俊鹏郑红军
申请人 ：
中国科学院半导体研究所
申请人地址 ：
100083北京市海淀区清华东路甲35号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
段成云
优先权 ：
CN200510086960.5
主分类号 ：
C11D7/26
IPC分类号 ：
C11D7/26 H01L21/304
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D7/00
主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物
C11D7/22
有机化合物
C11D7/26
含氧的
法律状态
2008-08-06 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-07-25 ：
实质审查的生效
2007-05-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1970714A.PDF
PDF下载
