用于晶片抛光后的存储装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种用于晶片抛光后的存储装置，该存储装置包括：槽体、晶片承载组件、循环泵和震动组件，其中，所述槽体包括：内槽体和外槽体，所述内槽体内填充有清洗液，所述外槽体设在所述内槽体外围，并且所述外槽体和所述内槽体之间形成溢流空间，所述外槽体底部设有清洗液出口；所述晶片承载组件上设有晶片，所述晶片承载组件可移动地从所述内槽体上端浸入到所述清洗液中；所述循环泵分别与所述清洗液出口和内槽体相连；所述震动组件设在所述内槽体上。采用该存储装置可以在存储抛光后晶片的同时快速去除其上的抛光液和腐蚀层颗粒残留，从而提高晶片品质。

基本信息

专利标题：

用于晶片抛光后的存储装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920922184.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-06-18

授权号：

CN210187878U

授权日：

2020-03-27

发明人：

卢建平郑加镇

申请人：

徐州鑫晶半导体科技有限公司

申请人地址：

江苏省徐州市徐州经济开发区杨山路66号

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

赵天月

优先权：

CN201920922184.5

主分类号：

B08B3/08

IPC分类号：

B08B3/08 B08B3/12 B08B3/14 B08B13/00