掩模板
实质审查的生效
摘要
本发明涉及显示技术领域,提供了一种掩模板,该掩模板包括掩模板主体,掩模板主体包括多个子掩模板,子掩模板包括第一区域、第二区域以及隔离所述第一区域和第二区域的隔离区,隔离区包括第一异形隔离区域、中间隔离区域和第二异形隔离区域,第二区域包括主体区域、第一加强区域和第二加强区域,隔离区、第一加强区域和第二加强区域均为非刻蚀区域和/或半刻蚀区域,第一加强区域用于补偿第一异形隔离区域的拐角区域在第一方向上的长度,第二加强区域用于补偿第二异形隔离区域的拐角区域在第一方向上的长度。该掩模板在张网过程中受力均匀,降低了掩模板主体由于应力突变在张网过程中出现褶皱导致掩模板主体贴合不良的问题。
基本信息
专利标题 :
掩模板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114318222A
申请号 :
CN202111484544.6
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张怡
申请人 :
昆山国显光电有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢
代理机构 :
上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
成丽杰
优先权 :
CN202111484544.6
主分类号 :
C23C14/04
IPC分类号 :
C23C14/04 C23C14/24 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20211207
申请日 : 20211207
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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