一种K波段波导隔离器
授权
摘要
本实用新型提出了一种K波段波导隔离器，包括：波导腔体、铁氧体、吸收体、负载腔体，所述波导腔体包括上腔体和下腔体，在上腔体的下端面与所述下腔体的上端面相对设置，且在相对位置处还分别设有一对铁氧体，上永磁铁通过磁回路的上片压紧于上腔体的上磁场腔内，下永磁铁通过磁回路的下片压紧于下腔体的下磁场腔内，所述负载端口内设置吸收体，且由负载腔体将吸收体压紧于所述负载端口。本实用新型采用金属匹配台阶和圆形金属匹配台阶的设计不仅能够对这一对铁氧体起到支撑作用，还能够使铁氧体片在永磁体片的磁场作用下磁化时，在保证铁氧体片磁化磁场强度的同时，增加了两片铁氧体片之间的电距离，从而有效扩展产品频带宽度。
基本信息
专利标题 ：
一种K波段波导隔离器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920457581.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-04
授权号 ：
CN209561593U
授权日 ：
2019-10-29
发明人 ：
程锦唐正龙
申请人 ：
南京广顺电子技术研究所有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市江宁区汤山工业集中区纬三路七号
代理机构 ：
北京中企鸿阳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪斌
优先权 ：
CN201920457581.X
主分类号 ：
H01P1/36
IPC分类号 ：
H01P1/36
法律状态
2019-10-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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