供液系统
授权
摘要
本实用新型提供一种供液系统，供液系统包括储液装置及液体处理装置，其中，液体处理装置包括：伸缩部件及驱动部件；伸缩部件与储液装置相连通，驱动部件与伸缩部件相连接，通过驱动部件驱动伸缩部件运行。本实用新型的供液系统，通过包括伸缩部件及驱动部件的液体处理装置，采用负压真空吸取方式，可降低伸缩部件中液体的气体溶解率，减少气泡的生成，且可实现自动补液功能；从而有效提高制程稳定性，提高产品质量，减少液体消耗量，降低维护成本，提高设备利用率。
基本信息
专利标题 ：
供液系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920482664.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-10
授权号 ：
CN209486466U
授权日 ：
2019-10-11
发明人 ：
刘庆超徐丽芝颜廷彪黄志凯叶日铨
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
余明伟
优先权 ：
CN201920482664.4
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2019-10-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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