光阻供液系统
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摘要

本实用新型提供了一种光阻供液系统,所述光阻供液系统包括冷藏槽、解冻槽、第一计时器、第二计时器、光阻泵、暂存槽和单向阀。所述光阻供液系统中,第一计时器计量同一生产批次的光阻在所述冷藏槽内的放置时间,第二计时器计量解冻后的光阻在所述解冻槽内的放置时间,可以降低人工记录卡控保质期和解冻时间导致的差错,并节约人工工时;利用所述光阻供液系统对光刻机台供液,可防止人工运输过程中光阻对人体的伤害并降低光阻瓶破损的可能性,同时节省搬运和更换光阻瓶的人力;所述光阻供液系统中的暂存槽,可以在冷藏槽和解冻槽进行加液或者清洗时,仍然维持向光刻设备供液的状态,使得光阻供液时光刻机台不用停机,有利于增加光刻机台的产出。

基本信息
专利标题 :
光阻供液系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921074380.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-10
授权号 :
CN210015326U
授权日 :
2020-02-04
发明人 :
杨柯朱成云古哲安黄志凯
申请人 :
德淮半导体有限公司
申请人地址 :
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
王宏婧
优先权 :
CN201921074380.8
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-02-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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