开放式MRI成像系统用磁体结构
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种适合介入式扫描、诊断，治疗、实时监视的开放式MRI成像系统用磁体结构，MRI磁体由多块磁性单元构成有惯通缺口的拱形圆。优点：一是适合介入式诊断，实时监视,如脑手术(脑血管，神经阻断），脑植入治疗；二是磁体短，小；三是外漏磁场低，安装场地要求低，5高斯线：<1米；四是采用了永磁材料结构，系统维护成本低。
基本信息
专利标题 ：
开放式MRI成像系统用磁体结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920506618.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-16
授权号 ：
CN210982706U
授权日 ：
2020-07-10
发明人 ：
沈伟俊
申请人 ：
杭州佩伟拓超导磁体技术有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区杭州经济开发区泰极路3号2幢502C-47
代理机构 ：
杭州中平专利事务所有限公司
代理人 ：
翟中平
优先权 ：
CN201920506618.3
主分类号 ：
G01R33/383
IPC分类号 ：
G01R33/383 A61B5/055
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/20
涉及磁共振
G01R33/28
G01R33/44到G01R33/64各组中仪器的零部件
G01R33/38
主磁场或梯度磁场的产生、均匀或稳定系统
G01R33/383
使用永久磁体
法律状态
2022-04-08 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01R 33/383
申请日 : 20190416
授权公告日 : 20200710
终止日期 : 20210416
申请日 : 20190416
授权公告日 : 20200710
终止日期 : 20210416
2020-07-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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