表面取样装置

授权

摘要

本实用新型提供一种表面取样装置，其能够分别对晶圆的上表面、下表面及侧面进行取样及清洁，避免了交叉污染；且可以选择性控制药液流速，采样过程可以依情况选择动态还是静态，提高提取效率；同时本实用新型解决VPD采样范围只停留在晶圆上表面及侧面的问题，本实用新型表面采样装置对晶圆的背面也可进行采样；采样后，取样液体直接送至外部检测设备，简化传输过程，避免样品流失，提高测试精度；另外，由于不需要防止扫描液滴滴落，所以省略了HF对晶圆预处理步骤，直接采样，且药液选择具有多样性，具有经济意义。

基本信息

专利标题：

表面取样装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920511686.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-16

授权号：

CN209979283U

授权日：

2020-01-21

发明人：

郭业经李俊杰黄志凯叶日铨

申请人：

德淮半导体有限公司

申请人地址：

江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

代理机构：

上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

孙佳胤

优先权：

CN201920511686.9

主分类号：

G01N1/10

IPC分类号：

G01N1/10