一种波片加工用清洗装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及清洗设备技术领域,且公开了一种波片加工用清洗装置,包括箱体,所述箱体的顶部固定安装有水箱,所述水箱顶部的左侧固定安装有进水口,所述水箱的左右两侧均固定安装有水管,两个所述水管相对的一侧均贯穿并延伸至箱体的内部且与箱体固定连接,两个所述水管相对的一侧均固定安装有花洒,所述箱体内腔的顶部固定安装有集热箱,所述集热箱内腔的顶部和底部均固定安装有发热片,所述集热箱的左右两侧均固定安装有通风管,两个所述通风管相对的一侧之间固定安装有涡轮风扇。该波片加工用清洗装置,整体结构简单,升高清洗台,使波片更好地与清洗刷接触,使清洗效果更加地完美,避免了人力和物力的浪费,便于操作人员地操作。

基本信息
专利标题 :
一种波片加工用清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920519783.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-17
授权号 :
CN209953364U
授权日 :
2020-01-17
发明人 :
林齐富
申请人 :
福建汉光光电有限公司
申请人地址 :
福建省福州市仓山区盖山镇齐安路758号工业厂房四号楼第五层靠近电梯一侧厂房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920519783.2
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02  B08B1/04  B08B13/00  F26B21/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-04-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B08B 3/02
申请日 : 20190417
授权公告日 : 20200117
终止日期 : 20210417
2020-01-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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