孔中心坐标测量系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种孔中心坐标测量系统，包括与工件上测量孔的中心重叠布设的探测基体、与探测基体的中心重叠布设的感测件和可识别所述感测件的中心坐标的扫描系统，所述探测基体上设有与所述测量孔的边缘对齐的基准刻度，所述基准刻度的中心为所述探测基体的中心。本实用新型通过将探测基体上基准刻度与测量孔的边缘对齐，使得探测基体的中心、感测件的中心与测量孔的中心重叠，模拟出测量孔的中心，在进一步通过扫描系统识别并获取感测件的中心坐标值即可获取测量孔的中心坐标，提高了测量效率和准确性。
基本信息
专利标题 ：
孔中心坐标测量系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920520522.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-16
授权号 ：
CN209894152U
授权日 ：
2020-01-03
发明人 ：
杨付四岳双成韦永亮陈刚刘海波
申请人 ：
广州汽车集团股份有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市越秀区东风中路448-458号成悦大厦23楼
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙燕娟
优先权 ：
CN201920520522.2
主分类号 ：
G01B21/04
IPC分类号 ：
G01B21/04 G01B21/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B21/00
不适合于本小类其他组中所列的特定类型计量装置的计量设备或其零部件
G01B21/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B21/04
通过测量各点的坐标
法律状态
2020-01-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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