一种提升双面PERC电池外观良率并降低酸耗的刻蚀槽

专利申请权、专利权的转移

摘要

本实用新型公开了一种提升双面PERC电池外观良率并降低酸耗的刻蚀槽，涉及晶硅太阳能电池生产设备技术领域，本实用新型包括刻蚀槽主体，所述刻蚀槽主体内设有刻蚀液，所述刻蚀槽主体内置有若干用于带动刻蚀液的滚轮，所述刻蚀液未完全淹没滚轮，所述滚轮上设有螺纹，所述螺纹的螺纹深度范围在0.2mm～2mm，所述螺纹的螺纹间距范围在0.2mm～3mm，本实用新型解决了亮边造成的背面外观异常，提升产品外观良率，同时又能降低酸耗。

基本信息

专利标题：

一种提升双面PERC电池外观良率并降低酸耗的刻蚀槽

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920548320.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-22

授权号：

CN209561349U

授权日：

2019-10-29

发明人：

张元秋

申请人：

通威太阳能（成都）有限公司

申请人地址：

四川省成都市双流区西南航空港经济开发区工业集中发展区六期内

代理机构：

成都弘毅天承知识产权代理有限公司

代理人：

李春霖

优先权：

CN201920548320.9

主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/67 H01L31/18

IPC结构图谱

H部——电学

H01

基本电气元件

H01L

半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件

H01L21/00

专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备

H01L21/67

专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置

法律状态

2019-11-22 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移IPC(主分类) : H01L 21/67
登记生效日 : 20191101
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 通威太阳能（成都）有限公司
变更后权利人 : 通威太阳能（眉山）有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 610299 四川省成都市双流区西南航空港经济开发区工业集中发展区六期内
变更后权利人 : 620000 四川省眉山市东坡区修文镇进修路8号附1号

2019-10-29 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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