一种局部深坑导流排水沟系统
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摘要
本实用新型的一种局部深坑导流排水沟系统，涉及基坑降排水技术领域，用于解决降水基坑面积大、且基坑内不宜设置降水井的降排水施工的问题。它包括需降水基坑内布置合理间距的排水沟槽，排水沟槽内依次设有滤水层、排水管、砂石以及混凝土垫层，滤水层包裹于排水管外侧；排水沟槽两端设有集水井，集水井内设有潜水泵，用于抽降地下。地下水经过排水沟槽内的滤水层渗入排水沟槽内的排水管内，再通过排水管将地下水汇集到位于排水沟槽端部设置的集水井中，在集水井安装潜水泵进行抽水，达到降低地下水的要求。不仅可达到不同区域不同高差的降水要求，又不致于抽降过多地下水，采用此降水方法可以减少工程成本。
基本信息
专利标题 ：
一种局部深坑导流排水沟系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920553789.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-22
授权号 ：
CN210288405U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
孙鹏鹏白小刚唐高强陈思睿宋全
申请人 ：
上海建工一建集团有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区福山路33号25-27楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920553789.1
主分类号 ：
E02D17/02
IPC分类号 ：
E02D17/02 E02D3/10 E02D19/10
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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