局部深坑支撑体系
授权
摘要
本实用新型提供了一种局部深坑支撑体系，所述局部深坑设于基坑的底部，所述基坑的底部浇筑有素混凝土垫层；所述支撑体系包括：设于局部深坑开挖面周围并浇筑于基坑的底部的配筋垫层，所述配筋垫层与所述素混凝土垫层连接；设于局部深坑开挖面周缘并浇筑于基坑的底部的锁口梁，所述锁口梁与所述配筋垫层连接及设于所述锁口梁内的钢支撑，所述钢支撑的两端分别与所述锁口梁固定。本实用新型支撑体系结构简单、施工便捷，施工速度快，主要用于超深(>2m)局部深坑区域的土方开挖，采用配筋垫层、锁口梁及钢支撑体系对局部深坑开挖面形成支撑，保证局部深坑开挖过程中的质量安全要求，起到防坍塌的作用。
基本信息
专利标题 ：
局部深坑支撑体系
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921260005.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-06
授权号 ：
CN210712866U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
续文昊鲍旺陈华谢正涛樊晨强陈新喜李赟张弘锦张文杰郭志鑫吴光辉
申请人 ：
中国建筑第八工程局有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区世纪大道1568号27层
代理机构 ：
上海唯源专利代理有限公司
代理人 ：
宋小光
优先权 ：
CN201921260005.2
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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