一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本实用新型公开了一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备，该设备包括流体存储容器和用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件，以及与执行部件连接的流体控制装置。该装置包括受控于主控模块的第一控制部件和受控于安全控制模块的第二控制部件；第一控制部件与第二控制部件串联至用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件；在主控模块工作异常时，安全控制模块控制第二控制部件动作以使执行部件断开流体存储容器的管路。

基本信息

专利标题：

一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920565995.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-24

授权号：

CN209822600U

授权日：

2019-12-20

发明人：

郭振宇赵德文李长坤

申请人：

清华大学;天津华海清科机电科技有限公司

申请人地址：

北京市海淀区清华园1号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201920565995.4

主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/67

IPC结构图谱

H部——电学

H01

基本电气元件

H01L

半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件

H01L21/00

专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备

H01L21/67

专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置

法律状态

2020-05-12 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

IPC(主分类) : H01L 21/67
变更事项 : 专利权人
变更前 : 清华大学
变更后 : 清华大学
变更事项 : 地址
变更前 : 100084 北京市海淀区清华园1号
变更后 : 100084 北京市海淀区清华园1号
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 天津华海清科机电科技有限公司
变更后 : 华海清科股份有限公司

2019-12-20 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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