一种控制基坑外隧道变形的深埋阻断屏障
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摘要

本实用新型公开了一种控制基坑外隧道变形的深埋阻断屏障,所述阻断屏障主体为钻孔灌注桩,桩顶位于深层土体之中,钻孔中设置有效长度桩长钢筋笼,并浇筑有混凝土至桩顶设计标高,桩身以上部分钻孔中回填细砂;所述深埋阻断屏障距离坑外既有隧道净距d=0.2~0.4D,D为隧道与基坑围护结构净距;深埋阻断屏障底部位置埋深L=2.0~2.4H,H为基坑开挖深度;深埋阻断屏障顶部埋入深度h=0.6~1.6H且h<1.2S,S为隧道中心埋深。本实用新型通过改变传统阻隔排桩有效桩长,将屏障顶部位置设置于深层土体之中,可有效增大阻断屏障对主动区土体的“阻断作用”的同时降低“牵引作用”,有效控制主动区土体变形,进而增大阻断屏障对坑外既有隧道的变形控制效果。

基本信息
专利标题 :
一种控制基坑外隧道变形的深埋阻断屏障
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920566032.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-23
授权号 :
CN210530860U
授权日 :
2020-05-15
发明人 :
杜一鸣郑刚刁钰张立明
申请人 :
天津大学
申请人地址 :
天津市津南区海河教育园雅观路135号天津大学北洋园校区
代理机构 :
天津市北洋有限责任专利代理事务所
代理人 :
琪琛
优先权 :
CN201920566032.6
主分类号 :
E21D11/10
IPC分类号 :
E21D11/10  E21D11/14  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进;采矿
E21D
竖井;隧道;平硐;地下室
E21D11/00
隧道、平硐或其他地下洞室,例如,地下大型硐室的衬砌;其衬砌物;现场制衬砌物,例如,通过组装
E21D11/04
用建筑材料衬砌
E21D11/10
用混凝土现场浇注;为此所用的模板或其他设备
法律状态
2020-05-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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