一种双重定位镭射打标机

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种双重定位镭射打标机，包括打标机本体和底座，所述打标机本体的下方设置有定位放置板，所述底座位于定位放置板的下方，且底座的侧上方设置有支撑柱，所述散热孔的内侧设置有限位柱，所述连接凸块的下端连接有限位固定座，且限位固定座的内部设置有吸附磁铁，所述定位放置板的外侧设置有连接安装座，所述连接安装座的侧上方设置有紧固螺杆，且连接安装座的侧面设置有活动限位板，所述活动限位板的内侧连接有连接活动轴。该双重定位镭射打标机，设置有活动限位板和限位柱，便于通过活动限位板和连接安装座的配合活动进行灵活的夹持和侧边限位，同时可通过吸附固定的限位柱进行快速的多点限位，提高限位灵活性。

基本信息

专利标题：

一种双重定位镭射打标机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920622547.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-05-05

授权号：

CN209850122U

授权日：

2019-12-27

发明人：

徐平

申请人：

苏州欧艾仪迪电子科技有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市苏州吴中经济开发区越溪街道前珠路1号6幢一楼

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201920622547.3

主分类号：

B23K26/362

IPC分类号：

B23K26/362 B23K26/70