光线控制装置、像源、投影幕布、投影系统和成像系统

授权

摘要

本实用新型提供了一种光线控制装置、被动发光像源、投影幕布和成像系统，其中，该光线控制装置包括：光线控制装置，包括：光线汇聚元件和弥散元件；所述弥散元件设置在光线汇聚元件上；当有光线入射时，光线汇聚元件将光线沿所述光线的入射方向的相反方向反射至弥散元件；弥散元件将入射的光线扩散并形成光斑。通过本实用新型实施例提供的光线控制装置、被动发光像源、投影幕布和成像系统，可以提高光线的利用率。

基本信息

专利标题：

光线控制装置、像源、投影幕布、投影系统和成像系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920712194.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-05-17

授权号：

CN210666314U

授权日：

2020-06-02

发明人：

吴慧军徐俊峰方涛

申请人：

未来（北京）黑科技有限公司

申请人地址：

北京市大兴区北京经济技术开发区地盛北街1号院40号楼17层1701室

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

罗满

优先权：

CN201920712194.6

主分类号：

G03B21/20

IPC分类号：

G03B21/20 G03B21/60