一种采用低温等离子体制备多孔性热障涂层的装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开一种采用低温等离子体制备多孔性热障涂层的装置及方法,主要应用在注塑模具型腔表面的涂层制备上。所述装置包括等离子体反应腔、高压电源、放置嵌件的三维移动平台、预热台、前驱体样品池、成孔剂样品池、气路控制器、气体瓶、真空泵、高压电极、地电极、反应室和待加工基体。通过高压电源在高压电极和地电极之间产生放电,通入载气和激励气体形成放电等离子体,载气将溶液中的前驱体和成孔剂分别送入等离子体反应腔中,在等离子体的作用下在基体表面形成多孔性热障涂层。本实用新型有益效果是:利用高能电子或活性自由基在基体表面发生反应,避免了高温等离子体喷涂所存在的等离子体接触基体表面产生温度骤降而造成的一系列问题。
基本信息
专利标题 :
一种采用低温等离子体制备多孔性热障涂层的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920759006.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-24
授权号 :
CN209923428U
授权日 :
2020-01-10
发明人 :
谢鹏程叶巴丁王瑞雪丁玉梅杨卫民
申请人 :
北京化工大学
申请人地址 :
北京市朝阳区北三环东路15号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920759006.5
主分类号 :
C23C18/00
IPC分类号 :
C23C18/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18/00
通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆;接触镀
法律状态
2021-05-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 18/00
申请日 : 20190524
授权公告日 : 20200110
终止日期 : 20200524
申请日 : 20190524
授权公告日 : 20200110
终止日期 : 20200524
2020-01-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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