能够进行液位控制的电镀槽
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及电镀设备技术领域，具体涉及能够进行液位控制的电镀槽；包括电镀槽本体，电镀槽本体为顶部开口的矩形空腔体，电镀槽本体侧壁设置有伸入至电镀槽本体内的进液管，进液管连接外部的进液装置，进液管伸入电镀槽本体部份上均匀开设有出液孔，进液管上设置有电磁阀，电镀槽本体内设置有上液位传感器和下液位传感器，上液位传感器、下液位传感器和电磁阀均与外部的控制器和电源连接；能够智能的控制液位，避免出液电镀液过多或过少的现象。
基本信息
专利标题 ：
能够进行液位控制的电镀槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920790201.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-29
授权号 ：
CN209989493U
授权日 ：
2020-01-24
发明人 ：
冯奎杨黎光杨连勇
申请人 ：
云南精工制版有限公司
申请人地址 ：
云南省昆明市呈贡县洛羊镇云南民办科技园内
代理机构 ：
昆明合众智信知识产权事务所
代理人 ：
张玺
优先权 ：
CN201920790201.4
主分类号 ：
C25D21/14
IPC分类号 ：
C25D21/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/12
工艺控制或调节
C25D21/14
电解液组分的控制添加
法律状态
2022-05-17 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C25D 21/14
申请日 : 20190529
授权公告日 : 20200124
终止日期 : 20210529
申请日 : 20190529
授权公告日 : 20200124
终止日期 : 20210529
2020-01-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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