电镀槽液水位控制装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种电镀槽液水位控制装置,涉及电镀设备领域,主要包括箱体,箱体的一侧装有电镀液进管用于通入电镀液,电镀液溢出管设置在箱体中间并从箱体底部穿出,多余的电镀液从溢出管管口溢出,在电镀液溢出管的根部开有电镀液排空孔用于排空电镀液,电镀液溢出管的两侧分别设置镀层金属袋和波浪板,箱盖安装在箱体的顶部,安装在镀层金属袋顶部的电镀阳极和安装在波浪板顶部的电镀阴极分别从箱盖上穿出。本实用新型的有益效果为:自动控制电镀液水位,电镀液循环流动,有效控制镀层金属粒子浓度;长时间不使用无需更换电镀液,降低生产成本及维护成本;停机时自动排空电镀液,防止波浪板上的杂质溶入电镀液中,提升电镀镀层品质。

基本信息
专利标题 :
电镀槽液水位控制装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921665161.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-30
授权号 :
CN210886282U
授权日 :
2020-06-30
发明人 :
葛海辉张大鹏
申请人 :
安费诺嘉力讯(海盐)连接技术有限公司
申请人地址 :
浙江省嘉兴市海盐县西塘桥街道(海盐经济开发区)中港路168号
代理机构 :
杭州九洲专利事务所有限公司
代理人 :
陈继亮
优先权 :
CN201921665161.7
主分类号 :
C25D17/02
IPC分类号 :
C25D17/02  C25D21/14  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
C25D17/02
镀槽;镀槽的安装
法律状态
2020-06-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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