一种可防止受到污染的真空镀膜机防尘结构
授权
摘要
本实用新型提供一种可防止受到污染的真空镀膜机防尘结构，包括放料口、密封座、供气阀、干燥箱、出气阀、出气口、密封底板、真空镀膜室、供气管以及干燥剂，镀膜机主体上侧装配有密封座，密封座中侧开设有放料口，镀膜机主体右侧安装有供气管，供气管上侧安装有供气阀，供气管右侧连接有干燥箱，干燥箱内部装配有干燥剂，镀膜机主体内部下侧安装有密封底板，密封底板下侧开设有出气口，出气口右侧安装有出气阀，镀膜机主体内部开设有真空镀膜室，该设计解决了原有真空镀膜机不能够有效防尘的问题，本实用新型结构合理，便于有效防止阻止真空镀膜时外界尘埃进入。
基本信息
专利标题 ：
一种可防止受到污染的真空镀膜机防尘结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920795709.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-30
授权号 ：
CN210287514U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
王金泉何东孝王菊姿
申请人 ：
常州市爱华真空设备有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区奔牛镇陈巷村委小叶家组西首
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920795709.3
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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