氨合成塔触媒装填分布装置
授权
摘要
一种氨合成塔触媒装填分布装置，包括：调整机构，侧壁四周均匀设置有调节槽；调整杆，可滑动设置在所述调节槽中；喷洒头，上端与所述调整杆远离所述调节槽的一端连接；软管，设置在所述喷洒头上端，用于触媒进料。本实用新型使用时，触媒通过软管进料，软管进料后进入喷洒头，由喷洒头喷出，由于调整杆均匀设置在调整槽中，而调节槽均匀设置在调整机构四周，因此调整杆均匀设置在调整机构四周，因此喷洒头通过调整杆均匀设置在调整机构四周，喷洒头对触媒进行喷撒时，由于多个喷洒头同时喷洒，在每个喷洒头的四周边缘喷洒后会相互叠在一起，避免单个喷洒头喷洒时导致触媒堆边缘堆重比不足的问题，使堆重比满足要求。
基本信息
专利标题 ：
氨合成塔触媒装填分布装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920799170.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-30
授权号 ：
CN210332583U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
张俊忠
申请人 ：
中国化学工程第三建设有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区佛学路东耕耘路北办公室
代理机构 ：
北京双收知识产权代理有限公司
代理人 ：
王菊珍
优先权 ：
CN201920799170.9
主分类号 ：
B01J4/00
IPC分类号 ：
B01J4/00 B01J8/02 C01C1/04
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J4/00
进料装置；进料或出口控制装置
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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