一种电解质等离子抛光机
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摘要
一种电解质等离子抛光机，涉及抛光机领域，包括抛光机机架、控制面板、电源柜，抛光机机架内固定有抛光槽、储液罐和升降装置，控制面板和电源柜固定于抛光机机架外机身上，抛光槽设有抛光槽进水口、抛光槽出水口、第一废液排出口、加热管、阴极板和抛光液多参数检测仪，储液罐设有储液罐进水口、储液罐出水口、第二废液排出口和补液口，抛光槽出水口通过管道连接至储液罐进水口，抛光槽进水口通过管道至储液罐出水口，电源柜和抛光液多参数检测仪通过导线连接至控制面板，加热管和阴极板通过导线连接至电源柜，本实用新型可以为科研实验或小批量抛光加工提供一种结构紧凑、制造成本低、加工耗费少、功能种类多且绿色节能的电解质等离子抛光机。
基本信息
专利标题 ：
一种电解质等离子抛光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920870071.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-11
授权号 ：
CN210683952U
授权日 ：
2020-06-05
发明人 ：
王成勇黄瑜何小琳郑李娟丁峰
申请人 ：
广东工业大学
申请人地址 ：
广东省广州市番禺区广州大学城外环西路100号
代理机构 ：
广州市时代知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
卢浩
优先权 ：
CN201920870071.5
主分类号 ：
C23F4/00
IPC分类号 ：
C23F4/00 B24B1/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F4/00
不包含在C23F1/00或C23F3/00组中的表面除去金属材料的工艺
法律状态
2020-06-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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