电解质等离子抛光设备
授权
摘要
本实用新型公开了电解质等离子抛光设备，通过支杆、限位套和滑杆的配合，使得滑杆能在限位套的内部上下滑动，通过浮球与滑杆的配合，当浮球受到电解液推动向上运动时，将带动滑杆向上运动，通过密封板和滑杆的配合，当滑杆向上运动到密封板与进料管底端贴合时，进料管将被堵住，电解液则不会在进入储液箱中，通过导向板，对进料管内流入的电解液进行缓冲，电解液经过缓冲后流至过滤网上，经过过滤网的过滤后流入等离子抛光机中，此设备通过在电解池与抛光等离子抛光机之间增加储液罐，起到了缓冲作用，使得抛光机的生产速度能够得到最大的发挥，同时不损伤抛光机，极大程度的提升了生产速度，带来极大的经济利益。
基本信息
专利标题 ：
电解质等离子抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922235926.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-13
授权号 ：
CN211332457U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
张叶成
申请人 ：
东莞市大源智能设备科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安厦边社区景福路5号4楼
代理机构 ：
深圳市千纳专利代理有限公司
代理人 ：
胡坚
优先权 ：
CN201922235926.X
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B57/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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